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CVD-1200系統
關 鍵 詞:高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD/CVI實驗、材料制備、納米線生長、材料燒結
CVD-1200系統由開啟式單(雙)溫區管式爐、高真空分子泵系統、壓強控制儀及多通道高精度數字質量流量控制系統組成?蓪崿F真空達0.001Pa混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。
型       號:CVD-1200
品       牌:鉅晶
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CVD-1200系統由開啟式單(雙)溫區管式爐、高真空分子泵系統、壓強控制儀及多通道高精度數字質量流量控制系統組成?蓪崿F真空達0.001Pa混合氣體化學氣相沉積和擴散試驗。

主要功能和特點:

1、高真空系統由雙級旋片真空泵和分子泵組成,最高真空可達0.0001Pa;

2、可配合壓強控制儀控制氣體壓力實現負壓的精準控制;

3、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計,流量顯示儀等組成,實現氣體的流量的精密測量和控制;每條氣體管路均配備高壓逆止閥,保證系統的安全性和連續均勻性。

4、采用KF快速法蘭密封,裝卸方便快捷;管路采用世界頂級Swagelok卡套連接,不漏氣;

5、超溫、過壓時,自動切斷加熱電源及流量計進氣,使用安全可靠。

主要用途:

高校、科研院所、工礦企業做高溫氣氛燒結、氣氛還原、CVD/CVI實驗,特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長、電池材料干燥燒結等場所。

主要技術參數:

SKGL-1200

控溫方式

采用人工智能調節技術,具有PID調節、自整定功能,并可編制30段升降溫程序。

加熱元件

0Cr27Al7Mo2

工作電源

AC220V      50HZ/60HZ

額定功率

4KW

爐管尺寸

Φ60/Φ80/Φ100*1000mm

工作溫度

1150

最高溫度

1200

恒溫精度

±1

加熱區長度

440mm220mm/220mm

升溫速度

20/min

密封方式

不銹鋼快速法蘭擠壓密封

ZK-F

真空范圍

0.1-0.001Pa

極限真空

4.0*10^-4Pa

產品配置

雙級旋片真空泵+分子泵

測量方式

復合真空計

真空規管

電阻規+電離規

冷卻方式

風冷

工作電源

AC220V 50/60HZ

抽速

110L/S

ZDFC-

測量范圍

51*10^-5 Pa

穩壓(真空)范圍

15*10^-3Pa

壓力(真空)穩定精度)

±3%

控制范圍

2.5*10^31*10^-4 Pa

控制精度

± 1%

HQZ-

控制方式

D07-7K質量流量計,D08流量顯示儀

流量規格

0500SCCM /01SLM,(可根據客戶需要配置)

線性

±1%F.S

準確度

±1%F.S

重復精度

±0.2%F.S.

響應時間

2sec

耐壓

3MPa

氣路通道

3通道(根據客戶需求)

針閥

316不銹鋼

管道

Φ6mm不銹鋼管

接口

SwagelokΦ6mm


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